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纳米集成电路制造工艺
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文档概述
纳米集成电路制造工艺
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内容简介
版权页
序言
再版前言
目录
第1章 半导体器件
第2章 集成电路制造工艺发展趋势
第3章 CMOS逻辑电路及存储器制造流程
第4章 电介质薄膜沉积工艺
第5章 应力工程
第6章 金属薄膜沉积工艺及金属化
第7章 光刻技术
第8章 干法刻蚀
第9章 集成电路制造中的污染和清洗技术
第10章 超浅结技术
第11章 化学机械平坦化
第12章 器件参数和工艺相关性
第13章 可制造性设计
第14章 半导体器件失效分析
第15章 集成电路可靠性介绍
第16章 集成电路测量
第17章 良率改善
第18章 测试工程
第19章 芯片封装
本书部分作者简介
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