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集成电路产业关键技术专利分析报告
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第3章 工艺领域关键技术分析

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2025-03-25 07:36:04
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  • 封面
  • 内容简介
  • 序
  • 第1章 绪 论
  • 1.1 需求调研
  • 1.2 专利分析
  • 1.3 数据来源
  • 1.4 术语解释
  • 第2章 2015年集成电路产业公开专利统计分析
  • 2.1 集成电路产业专利总体分析
  • 2.2 集成电路设计类专利分析
  • 2.3 集成电路工艺制造类专利分析
  • 2.4 集成电路封装测试类专利分析
  • 2.5 集成电路材料类专利分析
  • 2.6 集成电路设备仪器类专利分析
  • 第3章 工艺领域关键技术分析
  • 3.1 高介质金属栅工艺技术专利分析
  • 3.2 鳍式场效晶体管工艺技术专利分析
  • 第4章 存储领域关键技术分析
  • 4.1 MRAM技术的专利态势分析
  • 4.2 RRAM技术的专利态势分析
  • 4.3 PCRAM技术的专利态势分析
  • 4.4 3D存储技术专利态势分析
  • 第5章 光刻领域关键技术分析
  • 5.1 纳米压印光刻专利态势分析
  • 5.2 定向自组装光刻技术专利态势分析
  • 5.3 电子束光刻专利态势分析
  • 5.4 多重图形技术专利态势分析
  • 5.5 EUV光刻技术专利态势分析
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